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高純鎢的性質(zhi)、用途及(ji)制備方法(fa)介紹(shao)

高純鎢的性質、用途及制備方法介紹

  • 分類:業界動態
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  • 來(lai)源(yuan):
  • 發布時間:2022-12-19 10:56
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【概要描述】 鎢有高熔點、耐腐蝕、抗輻射等一系列優點,廣泛應用于電子、醫療、鋼鐵冶金等行業。精礦處理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的雜質,必須對其進行提純才能有高純制品。關于制造,在國外發展很快,特別是在日本,20世紀40年代就開始了高純度的研究和生產。

高純鎢的性質、用途及制備方法介紹

【概要描述】 鎢有高熔點、耐腐蝕、抗輻射等一系列優點,廣泛應用于電子、醫療、鋼鐵冶金等行業。精礦處理得到的是Na2WO4溶液,溶液中含有一定的雜質,必須對其進行提純才能有高純制品。關于制造,在國外發展很快,特別是在日本,20世紀40年代就開始了高純度的研究和生產。

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    鎢有高(gao)熔(rong)點(dian)、耐腐(fu)蝕、抗輻射等一系列(lie)優點(dian),廣泛應用(yong)于電(dian)子、醫療、鋼鐵冶金等行業。精礦處理得到的是Na2WO4溶(rong)液,溶(rong)液中含有一定(ding)的雜質(zhi),必須(xu)對其進行提(ti)純(chun)才(cai)能有高(gao)純(chun)制品。關于制造,在國(guo)外發展很快,特別是在日(ri)本,20世紀(ji)40年(nian)代就開(kai)始了高(gao)純(chun)度的研究和生產。

    高純(chun)鎢(wu)的熔(rong)點是(shi)所有金屬元素與密度(du)也很(hen)(hen)高,接近黃金。硬(ying)度(du)也很(hen)(hen)高,與碳化一(yi)樣(yang)接近金剛石。此(ci)外以其良好的導電導熱性能、膨脹系數小等(deng)特(te)點,廣泛應用于(yu)合金、電子、化工(gong)等(deng)領(ling)域。其中硬(ying)質合金是(shi)至(zhi)大(da)的消費領(ling)域,下面就一(yi)起來了解一(yi)下高純(chun)鎢(wu)的性能、用途和制(zhi)備吧!

    高純(chun)鎢特性(xing):純(chun)度(du)達到99.999%和(he)99.9999%,對放射性(xing)、堿(jian)金(jin)屬、重金(jin)屬、氣體(ti)元素等元素的含量(liang)有特殊要求,以5N和(he)5N表示6N純(chun)。各含量(liang)應在(0.1~1000)10-12之間。

    用途(tu):高(gao)純鎢及其硅化(hua)物用作(zuo)超大規(gui)模集成電路的(de)電阻(zu)層(ceng)和(he)擴散阻(zu)擋層(ceng),以(yi)及金屬(shu)氧(yang)化(hua)物半導(dao)體(ti)晶體(ti)管的(de)柵極和(he)連接料。

    分類:材料(liao)有(you)箔片、片材、靶材、燈絲、絕緣線(xian)、直條(tiao)、圓(yuan)管(guan)、粉(fen)末、單晶等。

   ; 高(gao)純鎢制備方法可分為粉末冶金(jin)、熔煉(lian)和化學(xue)氣相。

    1、粉末冶金:粉形成后,可得到坯(pi)料(liao)或簡單形態(tai)的(de)制品(pin),加熱(re)到低于其一定溫度,通過(guo)遷移(yi)完成致密(mi)化(hua)過(guo)程。

    2、化學氣相(xiang)沉(chen)積(ji):是指(zhi)以化合物氣體(ti)(一般為(wei)WF6)為(wei)源(yuan),有致(zhi)密的(de)坯(或制品),在一定(ding)(ding)溫度下用H2還原(yuan),生成的(de)過程在特定(ding)(ding)的(de)基板(ban)上(shang)。,完成后去除基材(cai)。

    3、熔煉是指將原料加熱到以上,形(xing)成液相的(de)過程。具體(ti)有真空(kong)自耗電弧、電子束、等離子等,去(qu)除雜(za)質后冷卻(que)凝(ning)固致(zhi)密化。使用的(de)手段各不(bu)相同(tong)。

    我國(guo)是鎢生產大(da)國(guo),資源量(liang)達520萬(wan)噸(dun)(dun)。河南量(liang)居全國(guo)前三位,其中江(jiang)西儲量(liang)占(zhan)全國(guo)的55.48%。是國(guo)外30個國(guo)家總(zong)量(liang)(130萬(wan)噸(dun)(dun))的3倍多,產量(liang)和出口量(liang)居世界前列。湖(hu)南以(yi)(yi)白礦(kuang)為(wei)主(zhu),江(jiang)西以(yi)(yi)黑為(wei)主(zhu),占(zhan)全國(guo)總(zong)量(liang)的42.40%。


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一分鐘為您介紹高純鎢
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高純鎢是制造集成電路的基本材料,材料形狀可以是箔片、片材、靶材、燈絲、絕緣線、直棒、圓管、粉末、單晶等。廣泛用作半導體大型的柵電路電極材料、布線材料和屏蔽金屬材料級集成電路。純度達到99.999%和99.9999%,分別記錄為5N和6N純鎢。各種雜質元素的含量應在(0.1~1000)×10-12之間,某些雜質元素的含量有特殊要求,如放射性、堿金屬、重金屬、氣體元素等。
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高純鎢性質用途及其制備
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高純鎢的熔點是所有金屬元素中較高的,密度高,接近金,鎢的硬度也高,像碳化鎢的硬度一樣接近金剛石。此外高純鎢還因其具有良好的導電性和導熱性、小膨脹系數等特性,廣泛應用于合金、電子、化工等領域,其中硬質合金是鎢較大的消費領域,那么下面一起了解下高純鎢性質用途及其制備吧!
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鉬價格繼續偏強運行,價格頂點在哪
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高純鎢在集成電路領域的應用
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高純鎢是純度為99.999%(5n)和99.9999%(6n)的純鎢,電極材料、布線材料、錫其中,高純度鎢靶是集成電路制造中不可缺少的。包括靶材、箔、片、絲、絲、棒、粉末、單晶等,主要應用于集成電路工業,在我國電子信息產業快速發展、集成電路市場規模不斷擴大的情況下,我國高純鎢需求旺盛,那么下面一起了解下高純鎢在集成電路領域的應用吧!
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高純鎢的制備方法
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銥靶-濺射靶材技術
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銥靶-濺射靶材的尺寸、平整度、純度、雜質含量、密度、N/O/C/S、晶粒度及缺陷控制等要求高于傳統材料行業;更高質量要求或特殊教育要求要求主要包括:表面進行粗糙度、電阻值、晶粒度分布均勻性、成分和結構可以均勻性、異物(氧化物)含量和尺寸、磁導率、超高建筑密度和超細晶粒等。
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銥靶-靶材應用領域
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銥靶-眾所周知,靶材的技術發展趨勢與薄膜技術在下游應用行業的發展趨勢息息相關。隨著應用行業中薄膜產品或元器件的技術進步,目標技術也應隨之改變。如Ic廠家。最近我們一直在致力于低阻銅布線的開發,預計未來幾年內原有的鋁膜將有很大的替代,因此銅靶材和所需阻隔層靶材的開發將刻不容緩。
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